株式会社ボンマーク
 
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サブストレートマスク

 サブストレート用メタルマスクとは 回路を形成するための硬質樹脂基板(リジッドタイプ)、ガラス基板等に直接、バンプを形成する為のマスクです。
 基板面側は印刷時の抜け性を向上するために面を粗面化し、エアー・ロードを 形成して、ハンダ充填時のマスク開口内のエアー抜きと基板密着を防止し、安定した版離れから画期的な抜け性の安定を実現したマスクです。

スキージ面
基板面
 


箔メタルマスク

 樹脂、Ag&Cuぺースト印刷&厚入用マスクとして開発を した板厚15μmから始まる極薄(箔)のマスクです。
 主な用途としては、ウエハバンプの予備ハンダ(フラックス) 印刷、導電ペーストによる電気回路形成等、膜厚を薄く 印刷する場合に有効なマスクです。
 その他、特殊複合技術を用いたマスクの製造も可能です。

微細バンプ形成φ30μm T=0.025の写真
微細バンプ形成φ30μm T=0.025